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dc.contributor.advisorBasso, Rodrigo Leonardo de Oliveira
dc.contributor.authorRoman, Daiane
dc.date.accessioned2014-06-04T16:16:38Z
dc.date.available2014-06-04T16:16:38Z
dc.date.issued2014-06-04
dc.date.submitted2010-11-25
dc.identifier.urihttps://repositorio.ucs.br/handle/11338/574
dc.descriptionFilmes finos nanométricos de nitreto de zircônio (ZrN) foram depositados sobre diferentes substratos, objetivando-se estudar a microestrutura da superfície e investigar o comportamento eletroquímico para obter a melhor composição que minimize reações de corrosão. Os filmes finos foram produzidos por deposição física de vapor (PVD). Foi estudada a influência da pressão parcial do gás nitrogênio, do tempo e da temperatura de deposição nas propriedades da superfície. Os filmes de ZrN foram caracterizados por espectrometria de retroespalhamento Rutherford (RBS), espectroscopia de fotoelétrons gerados por raios X (XPS), difração de raios X (DRX), nanodureza, microscopia eletrônica de varredura (MEV) e ensaios de corrosão. As propriedades dos filmes finos de ZrN variam com os parâmetros de deposição. Quanto maior a temperatura usada na deposição dos filmes maior a resistência contra corrosão. Quando depositado sobre o Titânio e sobre uma liga de NiTi, os ensaios de corrosão mostram que o revestimento de ZrN depositado por PVD pode efetivamente melhorar a resistência contra a corrosão.pt_BR
dc.description.abstractZirconium nitride (ZrN) nanometric films were deposited onto different substrates, in order to study the surface microstructure and also to investigate the electrochemical behavior to obtain a better composition that minimizes corrosion reactions. The thin films were produced by physical vapor deposition (PVD). The influence of the nitrogen partial pressure, deposition time and temperature over the surface properties was studied. Rutherford backscattering spectrometry (RBS), X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), X-ray diffraction (XRD), nanohardness, scanning electron microscopy (SEM) and corrosion experiments were performed to characterize the ZrN thin films. The thin films properties and microstructure changes according to the deposition parameters. The corrosion against resistance increases with temperature used in the films deposition. Corrosion tests show that ZrN thin films deposited by PVD onto titanium and onto alloy nitinol substrate effectively improve the corrosion resistance.en
dc.language.isoptpt_BR
dc.subjectEngenharia de materiais e metalúrgicapt_BR
dc.subjectRevestimentospt_BR
dc.subjectNitreto de zircôniopt_BR
dc.subjectPVDpt_BR
dc.subjectFilmes finospt_BR
dc.subjectMateriais biomédicospt_BR
dc.subjectCorrosão e anticorrosivospt_BR
dc.subjectMateriaispt_BR
dc.subjectCoatingspt_BR
dc.subjectZirconium nitridept_BR
dc.subjectPVDpt_BR
dc.subjectThin filmspt_BR
dc.subjectBiomedical materialspt_BR
dc.subjectCorrosion and anti-corrosivespt_BR
dc.subjectMaterialspt_BR
dc.titleDeposição de filmes finos de nitreto de zircônio para aplicação em biomateriaispt_BR
dc.typeDissertaçãopt_BR
mtd2-br.advisor.instituationUniversidade de Caxias do Sulpt_BR
mtd2-br.advisor.latteshttp://lattes.cnpq.br/9510255290269520pt_BR
mtd2-br.author.lattesROMAN, D.pt_BR
mtd2-br.program.namePrograma de Pós-Graduação de Mestrado em Materiaispt_BR


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